经过刻蚀或者离子注入之后，已经不再需要光刻胶作为保护层，因此可以将光刻胶从硅片的表面除去，这一步骤简称为去胶。

在集成电路工艺中，去胶的方法包括湿法去胶和干法去胶，在湿法去胶中又分为有机溶剂去胶和无机溶剂去胶。

使用有机溶剂去胶，主要是使光刻胶溶于有机溶剂中，从而达到去胶的目的。有机溶剂去胶中使用的溶剂主要有丙酮和芳香族的有机溶剂。

无机熔液去胶的原理是利用光刻胶本身也是有机物的特点（主要由碳和氢等元素构成的化合物），通过使用一些无机溶剂（如硫酸和双氧水等），将光刻胶中的碳元素氧化称为二氧化碳，这样就可以把光刻胶从硅片的表面除去。

Debem泵是专用于半导体去胶和先进清洗设备的气动隔膜泵，它具有以下优点：

1、针对多晶硅的特性，专门改进了密封面和球阀的材质，采用了一种特殊的材料使隔膜泵的耐磨性得到了普遍提高。

2、可以通过含固体颗粒液体：因为容积往复式工作且进口为球阀，所以不容易被堵，针对输送多晶硅的用途做了密封面和球阀的改进，使得耐用耐磨性得到了提高。

3、体积小、重量轻，便于安装和移动，没有复杂的控制系统，没有电缆、保险丝等，使用非常简单。

4、流量可调节，可以在介质出口处加装一个节流装置来调节流量。

5、无需润滑所以维修简便，不会由于复杂的安装工艺造成安装错误而滴漏污染工作环境。

6、泵的运行效率始终能保持高效，不会因为磨损而降低使用效率。

7、百分之百的能量利用，当关闭出口，泵自动停机，允许一定时间的空运转状态，而不会有危险。

8、没有机械动密封，维修简单避免了泄漏。并且工作时无死点。

9、泵不会过热：以空气压缩机的压缩空气为动力，在排气输送介质时是一个膨胀吸热的过程，所以气动泵工作时温度是降低的，不会影响多晶硅的导电特性。

10、不会产生电火花：气动隔膜泵本身不使用电力作动力，更环保，接地后又防止了静电火花

11、对物料的剪切力极低：工作时是怎么吸入的，排出介质时就是怎么排出，所以对物料化学性质的影响最小，基本不会破坏多晶硅的颗粒属性。

12、具有一定程度的自吸功能，使得在一定的距离内方便安装泵体。

如有任何关于泵的选型或使用上的问题，欢迎致电服务热线：0512-62809108，埃立特20年致力于特殊流体一站式解决方案，为500家客户提供专业服务。