半导体化学品处理：在硅晶圆制备环节中，隔膜泵主要用于晶圆片的打磨、抛光和清洗液的收集，考虑溶液化学特性，主要使用聚丙烯材质的隔膜泵。

在半导体制造的工艺段中，湿法化学腐蚀是最早用于微机械结构制造的加工方法，就是将晶片置于液态的化学腐蚀液中进行腐蚀，在腐蚀过程中，腐蚀液将把它所接触的材料通过化学反应逐步浸蚀溶掉。

用于化学腐蚀的试剂很多，有酸性腐蚀剂，碱性腐蚀剂以及有机腐蚀剂等。气动隔膜泵在湿法蚀刻环节中主要用于卸料和中间段的输送，输送HF、KOH 等酸碱液。

半导体厂的废水主要有三大来源：制程废水、纯水系统废水、废气洗涤废水。

在半导体废水的处理环节中，隔膜泵可用于中和液等酸碱的卸料和输送、环厂污水的收集 、压滤机投料，常使用聚丙烯和PVDF材质的泵，帮助达到环保要求和资源最大利用。

半导体生产中，离子布值机、化学清洗站、蚀刻机、炉管、溅镀机、有机溶剂与气瓶柜等均会产生废气。其中高浓度高污染废气会先经过局部洗涤，然后集中在全厂的中央废气处理系统中处理后排放。其余不同废气根据其性质和危害程度等，采用不同的处理方式。在半导体的废气处理环节，隔膜泵可用于酸碱等处理液的卸料和输送。

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