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半导体CMP抛光液专用气动泵
来源: | 作者:elitrade | 发布时间: 2023-04-22 | 426 次浏览 | 分享到:

CMP全称为 Chemical Mechanical Polishing,即化学机械抛光。CMP技术是晶圆制造的必须流程之一,对高精度、高性能晶圆制造至关重要,在CMP材料中,抛光液和抛光垫价值占比最高。


抛光液为抛光材料主要组成部分,对加工质量影响重大。它是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物,为均匀分散的乳白色胶体,起到研磨、腐蚀溶解等作用,主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。


Debem隔膜泵是输送CMP抛光液专用气动泵,它采用PTFE(聚四氟乙烯)材质,以压缩空气为动力源,隔膜组件采用进口PTFE、橡胶等材质,抗腐蚀性能大幅提升,同时磨损程度较小,更换隔膜简便。


Debem PTFE隔膜泵具有耐腐蚀,安全无漏等特性:

1、PTFE材质射出成型,耐酸碱、抗腐蚀性佳,适用温度80度以下。

2、结构简单,组装及维修方便,使用寿命长。

3、泵浦主体上设有排气阀,可将泵浦和管道内空气排除,防止吸入空气导致轴封损坏。
       
4、后轴封既可做一体成型方便组装,也可做分体式方便更换与维修。

5、前盖与法兰一体成型镶嵌螺丝,机械强度高。

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